Chemische Oberflächenanalyse - Sekundärionenmassenspektrometrie - Verfahren zur Tiefenkalibrierung für Silicium mit Mehrfach-Delta-Schicht-Bezugswerkstoffen
Englischer Titel
Surface chemical analysis - Secondary-ion mass spectrometry - Method for depth calibration for silicon using multiple delta-layer reference materials
Ausgabedatum
2009-04
Originalsprachen
Englisch
Seiten
19
Ausgabedatum
2009-04
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19
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ICS
71.040.40
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