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Norm [AKTUELL]
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Dieses Dokument wurde vom Arbeitsausschuss NA 027-03-03 AA "Fertigungsmittel für Mikrosysteme" im Normenausschuss Feinmechanik und Optik (NAFuO) bei DIN erarbeitet. DIN 32567-5 gibt für die optische topografische Messung der Schichtdicke von Schichtsystemen, bei denen Schicht und Substrat unterschiedliche optische Eigenschaften aufweisen, Verfahren an, mit denen die systematischen Abweichungen der gemessenen Schichtdicke ermittelt werden können. Diese Norm zielt in erster Linie auf die Materialpaarung weiche, nachgiebige Schicht auf hartem, steifem Substrat ab. Wichtigste Voraussetzung für die Anwendung des Norm-Entwurfs ist die Möglichkeit der topografischen Schichtdickenmessung, das heißt die Schicht muss als Profilstufe messbar sein.