Kurzreferat
Diese Richtlinie behandelt Beschichtungen aus Kohlenstoff, die mit den Verfahren der Vakuumbeschichtungstechnik (PVD oder CVD) abgeschieden werden. Diese modernen Schichtsysteme reichen von den extrem harten Diamantschichten über die große Vielfalt der meist wasserstoffhaltigen amorphen Kohlenstoffschichten bis zu den weichen Graphitschichten. Die Richtlinie verfolgt zwei Ziele: Sie soll zum einen eine einheitliche Einteilung und Nomenklatur der Kohlenstoffschichten schaffen. Zum anderen soll sie dem potenziellen Nutzer von beschichteten Werkstücken eine Vorauswahl von geeigneten Kohlenstoff- Schichttypen ermöglichen. Es sind in dieser Richtlinie im Wesentlichen die Schichten behandelt, die industriell hergestellt werden. Nicht enthalten sind daher z.B. die a-C:X- und die ta-C:X-Schichten (X = Si, O, F, N, B ...), die sich noch in der industriellen Entwicklung befinden oder zurzeit nur eine sehr eingeschränkte Verwendung finden.