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Norm [AKTUELL]
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Dieses Dokument legt ein zerstörendes Verfahren zur Messung der örtlichen Schichtdicke metallischer und anderer anorganischer Überzüge fest, in dem Querschnitte mit einem Rasterelektronenmikroskop (REM) untersucht werden. Das Verfahren ist für Schichtdicken bis zu mehreren Millimetern anwendbar, allerdings ist es für solch dicke Schichten üblicherweise praktischer, ein Lichtmikroskop (siehe ISO 1463) zu verwenden. Die untere Dickengrenze hängt von der erreichten Messunsicherheit ab. Dieses Dokument (EN ISO 9220:2022) wurde vom Technischen Komitee ISO/TC 107 „Metallic and other inorganic coatings“ in Zusammenarbeit mit dem Technischen Komitee CEN/TC 262 „Metallische und andere anorganische Überzüge, einschließlich des Korrosionsschutzes und der Korrosionsprüfung von Metallen und Legierungen“ erarbeitet, dessen Sekretariat von BSI (Vereinigtes Königreich) gehalten wird. Das zuständige deutsche Normungsgremium ist der Arbeitsausschuss NA 062-01-61 AA „Mess- und Prüfverfahren für Schichten und Schichtsysteme“ im DIN-Normenausschuss Materialprüfung (NMP).
Dieses Dokument ersetzt DIN EN ISO 9220:1995-01 .
Gegenüber DIN EN ISO 9220:1995-01 wurden folgende Änderungen vorgenommen: a) Hinzufügung von zwei weiteren Kalibrierverfahren in 5.2, 8.2 und 8.3; b) Streichung von technisch veralteten Inhalten, die die Instabilität von REMs und analogen Fotos oder den Betrieb von REMs betreffen [Streichung der alten Unterabschnitte 6.11, 6.12, 6.13, 8.4, 9.2.1, 9.2.2, 9.3, A.2.3, A.3.2, A.3.3, A.3.4 und A.3.7; Überarbeitung von Punkt e) in Abschnitt 12]; c) Betrachtung der Einflüsse von Abbildungsparametern auf die Messunsicherheit (neuer Unterabschnitt 6.11); d) Überarbeitung von Abschnitt 10 und Ergänzung von Anhang B mit Präzisionsdaten aus Ringversuchen; e) Überarbeitung von Anhang A zur (erneuten) Angleichung an ISO 1463:2021; f) Hinzufügung von Literaturhinweisen mit informativen Verweisungen; g) redaktionelle Überarbeitung.