DIN 50451-5:2010-03

Diese Norm ist eine Leitlinie zur Auswahl von Werkstoffen und zur Prüfung ihrer Eignung für Geräte zur Probennahme und Probenvorbereitung, die für die Bestimmung von Verunreinigungen in hochreinen Chemikalien für die Halbleitertechnologie eingesetzt werden. Sie gilt für Bestimmungen von Elementspuren in den Bereichen von Mikrogramm je Kilogramm und Nanogramm je Kilogramm.
Der Bedarf an der Leitlinie liegt darin begründet, dass zur Produktion höchstintegrierter Schaltkreise hochreine Chemikalien verwendet werden. Die Verunreinigung durch einzelne Elemente liegt oft innerhalb eines typischen Bereichs von 0,01 µg/kg bis 0,5 µg/kg. Für die analytische Untersuchung dieser hochreinen Chemikalien ist es notwendig, probenberührende Werkstoffe und Gerätekomponenten zu definieren, die keine signifikante Verunreinigung oder Veränderung der Proben bewirken.
Die Norm wurde vom Arbeitsausschuss NA 062-02-21 AA "Prüfung von Prozesschemikalien für die Halbleitertechnologie" im NMP erstellt.