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DIN 50451-4:2007-02

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 4: Bestimmung von 34 Elementen in hochreinem Wasser durch Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS)

Englischer Titel
Testing of materials for semiconductor technology - Determination of trace elements in liquids - Part 4: Determination of 34 elements in ultra pure water by mass spectrometry with inductively coupled plasma (ICP-MS)
Ausgabedatum
2007-02
Originalsprachen
Deutsch
Seiten
13

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Ausgabedatum
2007-02
Originalsprachen
Deutsch
Seiten
13
DOI
https://dx.doi.org/10.31030/9832921

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Einführungsbeitrag

Diese Norm wurde vom Arbeitsausschuss NA 062-02-21 AA "Prüfung von Prozesschemikalien für die Halbleitertechnologie" im NMP erstellt. Festgelegt ist ein Prüfverfahren zur Bestimmung der Massenanteile von 34 Elementen im extremen Spurenbereich in Reinstwasser, wobei als Bestimmungsverfahren die Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS) eingesetzt wird. Das Verfahren gilt für Elementspuren-Massenanteile von 10 ng/kg bis 1 000 ng/kg.

Inhaltsverzeichnis
ICS
29.045
DOI
https://dx.doi.org/10.31030/9832921
Ersatzvermerk

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